在众人的目光中，演示正式开始。
只见一条精密的机械臂，从机身侧面平稳地伸出。
精准地从晶圆盒中夹起一片薄如蝉翼的12英寸硅晶圆。
然后悄无声息地将其放置在工作台上。
“第一步，装载晶圆并进行预对准。”陆友的声音平静地响起。
随后工作台高速旋转起来，一滴胶状的液体精准地滴落在晶圆中心。
随着旋转均匀地铺展开来，形成一层薄而均匀的膜。
“第二步，涂覆光刻胶。”
紧接着，承载着晶圆的工作台瞬间移动到了巨大的曝光腔体内。
腔门关闭，整个房间的光线都暗淡了下来。
启明一号的机身上亮起了一排排指示灯。
虽然看不到内部的景象，但所有人都知道，最核心的步骤——光刻曝光，正在进行。
大佬们屏住呼吸，眼睛一眨不眨地盯着机身。
尽管什么都看不到，但他们能感觉到，一种无形的力量正在那腔体内创造着奇迹。
仅仅几十秒后，嗡嗡声停止。
腔门打开，工作台再次以惊人的速度移出。
“第三步，曝光完成。”
“接下来是后烘、显影、蚀刻、去胶等一系列自动化流程。”陆友指着晶圆在机体内部的不同模块间快速传递的过程。
整个过程没有一丝多余的动作，没有一点点噪音。
几分钟后，那片晶圆再次被机械臂平稳地送到成品检测台上，所有人都下意识地向前凑了一步。
从放入一片空白晶圆，到拿出一片刻满电路的成品。
整个过程加起来，竟然不超过十分钟！
这是什么效率？！
要知道，传统的EUV光刻流程，光是曝光一个晶圆，就需要相当长的时间，更不用说前后复杂的工序。
启明一号的效率，至少是现有最顶级光刻机的数倍，甚至十数倍！
“请看大屏幕。”陆友指向旁边的一块巨型显示屏。
屏幕上，立刻出现了刚刚生产出的那片晶圆的显微图像。
在放大了数百万倍之后，那比纳米还精细的电路结构清晰地呈现在众人面前。
线条流畅、边缘锐利，没有任何毛刺和缺陷。
“良品率……100%。”一个冰冷的声音报出了最终的检测结果。
本章未完，请点击下一页继续阅读！