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第1141章 被光改变的世界(第三更,求订阅)[3 / 5]

过玻璃纤维时,即便是作为发明人的高琨,也不知道,光与玻璃的结合,会如何改变这个世界。至少在五九年二月,是世人不曾知晓的,就像是两年前,在李毅安于斯德哥尔摩发表获奖感言时,在GAD公司,张敬业和六名合伙人,第一次使用光线照射的方式,获得了第一块光刻集成电路。

他们发明了世界上第一台接触式光刻机。顾名思义,接触式光刻机,就是简单粗暴地将光掩模盖在硅片上,光掩模与光刻胶图层直接接触,再打光照射,直接曝光,类似于照相机。

然而这种光刻方式的失败率和成本都很高,一张光掩模最多只能用个十几次,所以,GAD生产的芯片价格往往非常高昂。

但是航天事业拯救了它,尽管GAD生产的集成电路,每块价值上千元,但对于航天事业来说,这不算什么——无论是人造卫星,还是太空飞船或者火箭,都需要运算速度更快、更小的电子计算机。

于是,靠着南洋航空航天局的支持,GAD公司生存了下来。

但是,作为公司创始人的张敬业,很清楚公司产品的弱点——太贵。即便是航空航天局,也嫌太贵了

“我们需要一种更好的光刻机,它应该可以提供更廉价的集成电路!”

在获得第二轮风险投资后,张敬业在招兵买马的同时,也开始了新的研究。

“蔡司工程师,什么时候到?”

在办公室里,张敬业有些焦切的问道。

“约的时间是上午十点。”

秘书回答后,张敬业先看了一下手表,然后点头说道:

“9点50的时候,你提醒我一下。”

随后,张敬业便翻看起了手中的资料,两年前,他们发明了接触式光刻机后,南洋又有几家公司开始从事这方面的研究。

他们的加入,在加剧竞争的同时,也推动了这个行业的发展。

为了提高生产效率,降低成本,工程师们在原有基础上进行了改进,加了可水平和垂直移动的平台,以及用来测量光掩模和硅片间距与套刻的显微镜,让光刻时两者尽量接近但又不直接接触,这就是渐进式光刻机。

经过改良后的光刻机避免了光刻胶玷污光掩模,但是却带来了新的问题,光具有波粒二象性,由于光的衍射效应,光刻机的精度下降了

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